射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號：RT-RM-1

主要用途：本設備主要用于大專院校研究和開發(fā)納米級單層膜；如各種硬質膜、金屬膜；也可以是非金屬、化合物等薄膜材料?？梢赃M行直接濺射，亦可以實現(xiàn)反應濺射。

主要特點：結構簡捷、操作簡便，真空度維護高，安全可靠。

鍍膜機應安裝在干凈無塵埃、無腐蝕性氣體的室內，并具備清潔水源、及220V的穩(wěn)定電壓等條件的地方。

1、地面的基本水平度要經(jīng)過調整，不得高低不平；

2、環(huán)境溫度：10℃～30℃；

3、相對濕度：不大于75%；

4、耗水量（進水溫度≤25℃，2.5Kg≥水壓≥1.5Kg）：約0.2T/h；

5、水質要求：

矽酸硬度<6度，PH值：7－8，電導率：200us/cm,沉積率：<200mg/L。

6、電壓： 220V，50H_Z，

電壓波動范圍： 198～231V；

頻率波動范圍：49～51Hz;

7、水壓：0.3～1Kg/cm²或0.03～0.1MPa/cm²;

8、充入氣體純度99.9%或以上;

9、鍍膜用耗材純度99.9%或以上。

設備規(guī)格參數(shù)

1.1、濺射處理室：

       1、鐘罩：內徑225mm×高度260mm；

       2、試樣臺：直徑80mm（Z大）；

       3、試樣旋轉：靜止；

       4、擋板：手動；

       5、襯底加熱器：不銹鋼加熱器（DC24V）；

       6、襯底溫度范圍：室溫～200℃；

       7、襯底可調距離：20mm～60mm；

       8、濺射室限真空：0.5Pa

1.2、真空系統(tǒng)：

       1、抽氣系統(tǒng)：由機械泵組成的一級真空系統(tǒng)；抽氣速率：4升/S

       2、真空檢測：電阻真空計、電阻規(guī)；

       3、常用真空度：1～20Pa

       4、操作：手動

1.3、濺射電源：

1、射頻電源：頻率13.560MHZ,功率：500W，用表指示；

2、阻抗匹配器范圍：（2.7～45）Ω-j（0～70）Ω； 

3、供電：AC 220V；

4、冷卻方式：風冷；

  1.4、 磁控靶：

1、靶材直徑：Ф50mm、 一個永磁靶；

2、靶材厚度：3～6mm；

1.5、進氣系統(tǒng)：2路轉子流量計進氣，

1.6、電源要求：AC 220V  50Hz  10A

1.7、氣體要求：氬氣--純度99.9%(樣品有特殊要求時使用高純)

1.8、冷卻要求：靶體水冷，濺射電源風冷

1.9、體積重量：體積：L550mm×W680mm×H1480mm；約120kg